【发薪就能变强，我有十亿员工！】小说免费阅读，请收藏 钢笔小说【goboo.cc】
EUV光源,即纳米波长的极深紫外光,是实现“超精密电路雕刻”的核心,直接决定了芯片的最小线宽、集成度与性能上限。
只需一次曝光,就能把掩膜版上的电路图,复制到晶圆表层。
而传统的DUV光刻机,需通过“多重曝光”,才能形成芯片所需的精细线路。
具体来说,就是要对同一区域的光刻胶进行2到4次光刻与显影操作,最终效果才相当于EUV光刻机一次曝光所能达到的水平。
梁劲松从格罗方德、联华电子手里购买的NXT 1950i DUV光刻机,虽然也能生产14纳米、乃至10纳米的芯片,但必须利用多重曝光工艺。
然而,多次曝光会导致光刻步骤增加,生产周期变长、良品率骤减,成本迅速上升,至少要高个30%到50%。
这也是为何阿斯麦只要不向华国的Fab工厂出售EUV光刻机,便能牢牢卡住整个半导体行业脖子的主要原因。
即便掌握了其他关键技术,也会因制造成本居高不下,从而失去商业价值与市场竞争力。
就拿同一款芯片产品来说,高通以20美币的价格出售仍有毛利可赚,但国内芯片制造商若同样以20美币的价格售卖,反而要亏损三成。
如遇到内容无法显示或者显示不全，乱码错字，请更换谷歌浏览器即可正常阅读。